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GenISys GmbH｜电子束数据处理软件平台

  1. 面向电子束光刻（EBL）与激光直写的数据处理解决方案

  2. 提供邻近效应校正（PEC）与高精度曝光优化功能

  3. 支持 Monte Carlo 电子散射与多层材料工艺仿真

  4. 覆盖版图裂分、剂量修正与掩膜数据处理全流程

  5. 集成 SEM 图像分析、自动计量与缺陷检测能力

  6. 适用于半导体、MEMS、光子芯片与纳米制造研究

  7. 包含 BEAMER、LAB、TRACER、MASKER、ProSEM 与 InSPEC 软件平台

软件型号

软件名称 交易方式 交货时间 价格
BEAMER 电子配送 请联系我们 请联系我们
LAB 电子配送 请联系我们 请联系我们
TRACER 电子配送 请联系我们 请联系我们
MASKER 电子配送 请联系我们 请联系我们
ProSEM 电子配送 请联系我们 请联系我们
InSPEC 电子配送 请联系我们 请联系我们

SCIVARO14

软件说明

GenISys GmbH 官方网站 是一家专注于电子束曝光（EBL）、激光直写、掩膜数据处理（MDP）及 SEM 计量分析的软件公司，其产品广泛应用于半导体制造、纳米加工、MEMS、光子芯片、量子器件和先进封装等领域。

GenISys 软件产品系列

1. BEAMER

电子束/激光束曝光数据处理与邻近效应校正平台

BEAMER 是 GenISys 最核心的电子束光刻数据处理软件，用于：

  • Proximity Effect Correction（PEC，邻近效应校正）

  • Layout Fracturing（版图裂分）

  • Dose Correction（剂量修正）

  • 数据格式转换

  • EBL 写入优化

  • 纳米结构制造工艺优化

主要特点

  • 支持 JEOL、Raith、Vistec 等主流 EBL 系统

  • 支持 GDSII、OASIS 等版图格式

  • 高精度 PEC 算法

  • 多层曝光工艺优化

  • GPU 加速数据处理

  • 适用于纳米线、量子器件、MEMS、光子芯片等结构制造

典型应用

  • 半导体纳米加工

  • 光子晶体器件

  • 量子芯片

  • 微纳传感器

  • 超表面（Metasurface）

  • 微流控芯片

2. LAB

光刻工艺建模与计算优化平台

LAB 是用于先进光刻工艺开发与计算优化的平台，支持：

  • 光刻工艺仿真

  • 参数优化

  • 工艺窗口分析

  • 计算光刻（Computational Lithography）

  • AI/算法辅助工艺开发

核心优势

  • 缩短工艺开发周期

  • 降低实验试错成本

  • 提高曝光一致性

  • 支持多种光刻工艺模型

  • 适用于研发与量产工艺优化

适用领域

  • 半导体制造

  • MEMS

  • 光电子

  • 纳米光学

  • 微结构加工

3. TRACER

电子散射 Monte Carlo 蒙特卡洛模拟平台

TRACER 用于模拟电子束与材料之间的相互作用。

主要功能

  • Electron-Solid Interaction 模拟

  • 多层材料散射分析

  • Backscattering 计算

  • Forward Scattering 分析

  • PEC 参数提取

  • 光刻胶工艺校准

技术特点

  • 高精度 Monte Carlo 算法

  • 任意材料堆叠模拟

  • 支持复杂纳米结构

  • 与 BEAMER 深度集成

应用方向

  • EBL 工艺校准

  • 纳米加工研究

  • 光刻胶优化

  • 新材料研究

4. MASKER

掩膜数据处理（MDP）与掩膜工艺校正平台

MASKER 专门面向非标准掩膜制造与先进显示工艺。

功能特点

  • Mask Data Preparation（MDP）

  • Mask Process Correction（MPC）

  • 大尺寸掩膜优化

  • FPD（平板显示）掩膜处理

  • 光子器件掩膜优化

应用行业

  • 平板显示（FPD）

  • MicroLED

  • 光子芯片

  • IoT 器件

  • 特种半导体器件

5. ProSEM

SEM 图像分析与计量软件

ProSEM 用于扫描电子显微镜（SEM）图像分析与自动计量。

主要功能

  • 自动特征尺寸测量

  • SEM 图像分析

  • 边缘检测

  • 工艺监控

  • 自动图像采集

  • 批量测量分析

典型应用

  • CD-SEM 测量

  • 纳米结构尺寸分析

  • 工艺质量监控

  • 半导体检测

6. InSPEC

集成式 SEM 检测与计量平台

InSPEC 是面向自动化 SEM 检测与多芯片计量的高级平台。

主要特点

  • 多芯片自动检测

  • 自动扫描路径规划

  • Contour Detection（轮廓识别）

  • 数据后处理

  • 批量检测工作流

适用场景

  • 晶圆检测

  • 工艺一致性分析

  • 自动化计量

  • 半导体量产监控

GenISys 产品核心应用领域

应用方向相关软件
电子束光刻（EBL）BEAMER / TRACER
激光直写BEAMER / LAB
掩膜数据处理MASKER
SEM 自动计量ProSEM / InSPEC
光子芯片制造BEAMER / MASKER
纳米加工BEAMER / TRACER
半导体工艺开发LAB / InSPEC

GenISys 软件平台优势

  • 覆盖完整微纳制造工作流

  • 高精度电子束邻近效应校正（PEC）

  • 支持先进半导体与光子器件

  • 提供 Monte Carlo 物理仿真

  • 支持自动化 SEM 检测

  • 面向科研与工业量产双场景

  • 支持复杂纳米结构与先进工艺节点

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